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  • XWS-X—高亮

    XWS-X—高亮

    ISTEQ的XWS-X 是专门为那些(xie)需要(yao)高(gao)(gao)强度的、高(gao)(gao)紫(zi)(zi)外(wai)光(guang)源的客户开发的。产品特点:•与(yu)(yu)XWS-65相(xiang)比(bi),整个(ge)光(guang)谱范围(wei)的亮度明显更高(gao)(gao)•最大(da)光(guang)谱亮度up to 120mW mW/(mm2·sr·nm)•与(yu)(yu) XWS-65相(xiang)比(bi),在(zai)250nm以(yi)下的紫(zi)(zi)外(wai)波(bo)段的亮度提高(gao)(gao)•输出(chu)配(pei)置(zhi): Free space or FCU•双(shuang)端口配(pei)置(zhi)•高(gao)(gao)功率配(pei)置(zhi),输出(chu)亮度up to 200mW/(mm2·sr·nm)

  • XWS-65—基础款

    XWS-65—基(ji)础款(kuan)

    ISTEQ’s XWS-65 光源(yuan)产品(pin)已经应用(yong)于(yu)各种(zhong)应用(yong),包括光谱(pu)学(xue),高分(fen)辨率显(xian)微镜(jing),薄(bo)膜测量(liang),表面(mian)测量(liang)等。这(zhei)款光源(yuan)基于(yu)最前(qian)沿的(de)技术(shu),已经在(zai)美国(guo)和欧盟注册(ce)了自有知识产权(quan)。主(zhu)要优点:• 连续激光脉冲放(fang)电• 宽光谱(pu)范围(wei): 190 – 2500 nm• 高光谱(pu)亮度: up to 50 mW/(mm2·sr·nm)• 高时空稳定性: STD<0.15%• 高使用(yong)寿命(ming) (由(you)于(yu)electrodeless

  • XWS-30—紧凑型

    XWS-30—紧凑(cou)型

    ISTEQ’s XWS-30 光源是专门为那些需要超(chao)紧(jin)凑、低散热保持等(deng)离子高亮度的宽带光源的客(ke)户而开发的产品特点:•一个紧(jin)凑的 “all in one” 的概(gai)念光源•非(fei)常(chang)紧(jin)凑: 110x110x120mm, 没有额外的冷(leng)却(que)•光谱(pu)亮度: up to 40 mW/(mm2·sr·nm)•输出配置: Free space or FCU•全(quan)系(xi)统控制通过(guo)USB-RS485适配器(qi)笔(bi)记本/PC机

  • Hyperchromator—可调谐

    Hyperchromator—可调谐

    Hyperchromator通过使(shi)用孔径高达f/1.5的(de)镜面来收集光(guang),利(li)用了点离子体光(guang)源的(de)优(you)势,为了确保最大的(de)光(guang)通量而不限制进口狭(xia)(xia)缝。Hyperchromator为需要快速(su)和(he)可调点光(guang)源的(de)应用而优(you)化。产品特(te)征:•不同的(de)配置可选择•快速(su)光(guang)学, up to f/1.5 for highest throughput•均匀的(de)光(guang)输出分布•匹(pi)配ISTEQ XWS-30•宽调谐范围(wei):从DUV到NIR•无输入狭(xia)(xia)缝•

  • XWS-Dual port—双光束

    XWS-Dual port—双光束

    产品特征:•每个端口(kou)参(can)数相(xiang)同的双光束光源•基于XWS-65开发•光谱亮度: up to 50 mW/(mm2·sr·nm)•高稳定性(xing): STD<0.15%FCU 版本:•SMA or FC 光纤接口(kou)•每根光纤输出功率(lv)可达0.5W

  • XWS-R—高功率

    XWS-R—高功(gong)率(lv)

    光谱特点:•高功率(lv)版本(ben):与默(mo)认XWS-65相比,输出(chu)功率(lv)/亮度(du)几乎翻(fan)倍•光谱亮度(du): up to 90 mW/(mm2·sr·nm)•可在两种情(qing)况下完成:自由(you)空间和(he)FCU配置•FCU版本(ben)的(de)光纤输出(chu)功率(lv)高达1W

  • KTN晶体

    KTN晶体

    在现(xian)有(you)材料(liao)中,具有(you)最大的(de)电(dian)光(guang)(guang)(EO)效应(ying)的(de)光(guang)(guang)学(xue)(xue)晶体:通过利用电(dian)光(guang)(guang)(EO)的(de)作用,可以进行高(gao)(gao)(gao)速(su)光(guang)(guang)学(xue)(xue)控制(zhi)(zhi)(zhi)。当应(ying)用于光(guang)(guang)学(xue)(xue)扫(sao)描(miao)仪(yi)时,它可以以传统技术无法实现(xian)的(de)方式进行位移跟踪。 特点通过使(shi)用高(gao)(gao)(gao)EO效应(ying)(Kerr效应(ying)),可以制(zhi)(zhi)(zhi)造小型高(gao)(gao)(gao)速(su)光(guang)(guang)学(xue)(xue)扫(sao)描(miao)仪(yi)(光(guang)(guang)学(xue)(xue)偏光(guang)(guang)镜),可变焦(jiao)距透(tou)镜或高(gao)(gao)(gao)效相位调制(zhi)(zhi)(zhi)器(光(guang)(guang)学(xue)(xue)开(kai)关)。

  • TAM软X射线晶体

    TAM软(ruan)X射线(xian)晶体

    产品简介在电子(zi)光学有(you)机(ji)晶体材(cai)料的探(tan)索研制中,目前已经找到一(yi)种(zhong)晶体---三甲(jia)基(ji)甲(jia)胺晶体[CH2OH]3ONH2简称TAM,属(shu)正交晶系,空间群PZ10n其(qi)晶胞参数(shu)a=7.786Å,b=8.785Å,c=8.835Å,z=4,熔点为170~172°C。(0k0)有(you)完整的解理面,(020)面2d=8.79Å,它与通常作X射线(xian)光谱(pu)仪(yi)的季四醇(简称PET)晶体(002)面的2d值(8.76Å)相(xiang)近,其(qi)分光波段(duan)

  • KTN偏转器

    KTN偏(pian)转器

    KTN偏振器的(de)(de)(de)(de)(de)超高速(su)扫描(miao)和(he)任意扫描(miao)将(jiang)(jiang)实(shi)现(xian)新(xin)的(de)(de)(de)(de)(de)技(ji)术思(si)想 优点/功(gong)能(neng):与(yu)传(chuan)统产品相比(bi),运行速(su)度高出100倍以上由于光(guang)是被(bei)电(dian)子转(zhuan)移(yi)和(he)外部(bu)电(dian)场(chang)控(kong)制,而没(mei)有任何机械运动部(bu)件,因此传(chuan)统技(ji)术不能(neng)支持的(de)(de)(de)(de)(de)高速(su)操作成为了(le)可能(neng)。例如,当将(jiang)(jiang)其应用于激光(guang)雷达时,与(yu)传(chuan)统技(ji)术相比(bi),将(jiang)(jiang)可能(neng)实(shi)现(xian)更高速(su)度的(de)(de)(de)(de)(de)目标识别。 与(yu)传(chuan)统产品相比(bi),可以将(jiang)(jiang)设备尺寸减小到小其的(de)(de)(de)(de)(de)1/100因为它(ta)是在晶体上形成的(de)(de)(de)(de)(de)电(dian)极的(de)(de)(de)(de)(de)简单(dan)结(jie)构(gou),并且芯片尺寸很小,几平方毫(hao)

  • 变焦透镜

    变(bian)焦(jiao)透镜

    通过(guo)电(dian)光(guang)(guang)激活,最适(shi)合(he)与(yu)生物相关的(de)快速激光(guang)(guang)显微(wei)成像。优点1. 超(chao)快通过(guo)控制KTN晶体的(de)电(dian)压,焦(jiao)(jiao)距可以在微(wei)秒内调节,这比传(chuan)统的(de)变焦(jiao)(jiao)镜(jing)头快100倍。 聚焦(jiao)(jiao)机制:概念图焦(jiao)(jiao)距偏(pian)移性能(neng)KTN可变透镜(jing)用作(zuo)凸透镜(jing),焦(jiao)(jiao)距与(yu)所提(ti)供电(dian)压的(de)平方成正比。当施加1 kV时,使用实际介电(dian)常(chang)数(shu)的(de)透镜(jing)屈光(guang)(guang)力的(de)典型值为1.0 m -1。 电(dian)压vs焦(jiao)(jiao)点偏(pian)移

  • 可见光、全帧CCD 相机 ELSEs 系列

    可见光(guang)、全帧(zhen)CCD 相(xiang)机 ELSEs 系列

    公司介(jie)绍(shao):成立于2008年的(de)greateyes,是以(yi)德国柏林(lin)洪堡(bao)大(da)学的(de)技术为基础,迅速发展成为国际知名的(de)先(xian)进探测器生(sheng)产(chan)(chan)企业(ye)。如今,其(qi)科研与(yu)工(gong)业(ye)客户群体已遍布多(duo)个(ge)国家(jia)。greateyes开发、生(sheng)产(chan)(chan)并(bing)销售高性能科学相机(ji)。其(qi)作为精确(que)探测器,被广(guang)泛应(ying)用(yong)(yong)于成像与(yu)谱学应(ying)用(yong)(yong)领域。同(tong)时(shi),greateyes公司也生(sheng)产(chan)(chan)用(yong)(yong)于太阳能产(chan)(chan)业(ye)的(de)电致荧(ying)光与(yu)光致荧(ying)光检测系统。 产(chan)(chan)品(pin)介(jie)绍(shao):greateyes基于独特的(de)平台概念,提(ti)供约

  • 可见光、全帧CCD相机 ELSE i系列

    可见(jian)光、全帧CCD相机(ji) ELSE i系列

    公(gong)司介(jie)绍(shao):成立于(yu)2008年的(de)(de)greateyes,是以德国柏林洪堡大学的(de)(de)技(ji)术为基础,迅速发展(zhan)成为国际知名的(de)(de)先进探(tan)测(ce)器(qi)生产企业(ye)。如今,其科(ke)研与(yu)工(gong)业(ye)客(ke)户群(qun)体已遍布多(duo)个国家。greateyes开发、生产并销售高性能科(ke)学相机(ji)。其作为精确(que)探(tan)测(ce)器(qi),被广泛应用(yong)(yong)于(yu)成像与(yu)谱学应用(yong)(yong)领域。同时,greateyes公(gong)司也生产用(yong)(yong)于(yu)太阳能产业(ye)的(de)(de)电致(zhi)荧(ying)光与(yu)光致(zhi)荧(ying)光检测(ce)系统。 产品介(jie)绍(shao):greateyes基于(yu)独特的(de)(de)平台(tai)概念(nian),提供用(yong)(yong)

  • 光学浮区炉零配件

    光学浮区(qu)炉零配件

    供应日本CSC光学浮区(qu)炉各种零配件我司有常备易损易耗件1500W卤素灯现货

  • 光学浮区炉(O型圈密封型)

    光(guang)学浮区炉(O型(xing)圈密封型(xing))

    特(te)征:日本CSC公司成功研(yan)制了一种四镜(jing)光学浮(fu)区(qu)炉.熔区(qu)水(shui)平的(de)(de)面(mian)的(de)(de)温度分(fen)布及其(qi)均(jun)匀,非常适合于(yu)用(yong)(yong)于(yu)生长高质量的(de)(de)单晶(jing).FZ-T-10000-H-VII-VPO-PC(1) 通过使(shi)用(yong)(yong)四镜(jing)加热(re)系统在(zai)熔区(qu)水(shui)平面(mian)获(huo)得了相当均(jun)匀的(de)(de)温度分(fen)布 (2) 提(ti)供多(duo)种类型(xing)的(de)(de)灯,以满(man)足多(duo)种材(cai)料(liao)的(de)(de)应用(yong)(yong) 卤(lu)素灯: 根据客(ke)(ke)户(hu)制备的(de)(de)材(cai)料(liao)不同(tong),有各种类型(xing)的(de)(de)灯供客(ke)(ke)户(hu)选(xuan)择,其(qi)中包 括 (150W,300W,5

  • 光学浮区炉(磁流密封型)

    光学浮区炉(磁流密(mi)封型)

    Feature :Optical floating zone furnaces (Magnetic Liquid sealed) are designed for keeping the high-quality atmospheric condition by using a magnetic liquid seal kits from high vacuum to high pressure

  • 离子束刻蚀设备

    离子(zi)束刻蚀设备

    离(li)(li)(li)(li)子(zi)(zi)(zi)束(shu)刻(ke)(ke)(ke)蚀(shi)(shi)(shi)(shi)的(de)原理(li)是把氩气(qi)等惰性(xing)气(qi)体充入(ru)离(li)(li)(li)(li)子(zi)(zi)(zi)源放电室,并(bing)使(shi)其电离(li)(li)(li)(li)形成等离(li)(li)(li)(li)子(zi)(zi)(zi)体,然后由栅极将离(li)(li)(li)(li)子(zi)(zi)(zi)呈束(shu)状引出并(bing)加速,具(ju)有一定能(neng)量的(de)离(li)(li)(li)(li)子(zi)(zi)(zi)束(shu)进(jin)入(ru)工作(zuo)室,射向固(gu)体表面,撞击固(gu)体表面原子(zi)(zi)(zi),使(shi)材料原子(zi)(zi)(zi)发生溅射,达到刻(ke)(ke)(ke)蚀(shi)(shi)(shi)(shi)目的(de),纯(chun)属物理(li)过程。基本(ben)功能(neng)1. 三(san)维(wei)结构(gou)刻(ke)(ke)(ke)蚀(shi)(shi)(shi)(shi):离(li)(li)(li)(li)子(zi)(zi)(zi)束(shu)刻(ke)(ke)(ke)蚀(shi)(shi)(shi)(shi)设备可用于(yu)刻(ke)(ke)(ke)蚀(shi)(shi)(shi)(shi)任何材料的(de)三(san)维(wei)结构(gou),刻(ke)(ke)(ke)蚀(shi)(shi)(shi)(shi)陡(dou)直度优于(yu)85度,刻(ke)(ke)(ke)蚀(shi)(shi)(shi)(shi)精度可做到小于(yu)10nm。2. 材料表面清洗:采(cai)用考夫曼离(li)(li)(li)(li)子(zi)(zi)(zi)源产生的(de)准直离(li)(li)(li)(li)子(zi)(zi)(zi)束(shu)对样

  • 双离子束溅射沉积镀膜设备

    双(shuang)离(li)子束(shu)溅射(she)沉积镀膜(mo)设备(bei)

    离子(zi)束溅射(she)沉积镀(du)膜(mo)(mo)(mo)原理(li)是利(li)用离子(zi)源产(chan)生的(de)高能(neng)离子(zi)束轰击置(zhi)于(yu)高真空中的(de)靶材(cai)(cai),使靶材(cai)(cai)原子(zi)溅射(she)直接(jie)沉积在衬(chen)底表(biao)面上(shang),在衬(chen)底表(biao)面重新组(zu)合形成薄(bo)(bo)膜(mo)(mo)(mo),该(gai)镀(du)膜(mo)(mo)(mo)技术是纯(chun)物(wu)(wu)理(li)过程,无(wu)环境污(wu)染、无(wu)交叉污(wu)染。基本(ben)功能(neng)1. 可用于(yu)在各(ge)种(zhong)衬(chen)底材(cai)(cai)料(liao)上(shang)溅射(she)沉积各(ge)种(zhong)金属、合金、化合物(wu)(wu)及半导体材(cai)(cai)料(liao)的(de)单(dan)层薄(bo)(bo)膜(mo)(mo)(mo)、多层薄(bo)(bo)膜(mo)(mo)(mo),也可将单(dan)质(zhi)材(cai)(cai)料(liao)通(tong)过反应合成氧(yang)化物(wu)(wu)、氮化物(wu)(wu)、碳(tan)化物(wu)(wu)等薄(bo)(bo)膜(mo)(mo)(mo);2. 与CVD和PVD等其他(ta)薄(bo)(bo)膜(mo)(mo)(mo)技术相比,具(ju)有薄(bo)(bo)膜(mo)(mo)(mo)材(cai)(cai)料(liao)最广(guang)

  • 反应离子刻蚀设备

    反(fan)应(ying)离子刻蚀设(she)备

    反(fan)应(ying)(ying)离(li)(li)(li)子(zi)(zi)刻(ke)(ke)(ke)(ke)蚀(shi)(shi)(shi)原理是将通(tong)入(ru)刻(ke)(ke)(ke)(ke)蚀(shi)(shi)(shi)室(shi)的(de)(de)(de)工艺气体(ti)(ti)(ti)分(fen)子(zi)(zi)解离(li)(li)(li),产生等(deng)(deng)(deng)(deng)离(li)(li)(li)子(zi)(zi)体(ti)(ti)(ti)。一(yi)(yi)方面由等(deng)(deng)(deng)(deng)离(li)(li)(li)子(zi)(zi)体(ti)(ti)(ti)中的(de)(de)(de)部分(fen)活(huo)性基团(tuan)与被(bei)刻(ke)(ke)(ke)(ke)蚀(shi)(shi)(shi)材(cai)料表面发生化学(xue)反(fan)应(ying)(ying),另(ling)一(yi)(yi)方面由于射频自(zi)偏(pian)压作用,等(deng)(deng)(deng)(deng)离(li)(li)(li)子(zi)(zi)体(ti)(ti)(ti)中的(de)(de)(de)正离(li)(li)(li)子(zi)(zi)对被(bei)刻(ke)(ke)(ke)(ke)蚀(shi)(shi)(shi)材(cai)料表面进行(xing)物(wu)理轰击(ji),从而以物(wu)理化学(xue)相(xiang)结合的(de)(de)(de)方法达到材(cai)料表面刻(ke)(ke)(ke)(ke)蚀(shi)(shi)(shi)的(de)(de)(de)目的(de)(de)(de)。基本功(gong)能1. 该设备采用平板电容(rong)放电形式(shi),将通(tong)入(ru)刻(ke)(ke)(ke)(ke)蚀(shi)(shi)(shi)室(shi)的(de)(de)(de)工艺气体(ti)(ti)(ti)分(fen)子(zi)(zi)解离(li)(li)(li),产生等(deng)(deng)(deng)(deng)离(li)(li)(li)子(zi)(zi)体(ti)(ti)(ti)。一(yi)(yi)方面由等(deng)(deng)(deng)(deng)离(li)(li)(li)子(zi)(zi)体(ti)(ti)(ti)中的(de)(de)(de)部分(fen)活(huo)性基团(tuan)与被(bei)刻(ke)(ke)(ke)(ke)蚀(shi)(shi)(shi)材(cai)料表面发生化学(xue)反(fan)应(ying)(ying)

  • 高端国产X射线衍射仪

    高端国产(chan)X射(she)线衍射(she)仪(yi)

    广泛(fan)应用于(yu)各种(zhong)材(cai)(cai)(cai)(cai)料(liao)(liao)结构分(fen)析的(de)各个(ge)领(ling)域。分(fen)析的(de)材(cai)(cai)(cai)(cai)料(liao)(liao)包括(kuo):金属(shu)材(cai)(cai)(cai)(cai)料(liao)(liao)、无机(ji)(ji)材(cai)(cai)(cai)(cai)料(liao)(liao)、复合(he)材(cai)(cai)(cai)(cai)料(liao)(liao)、有(you)机(ji)(ji)材(cai)(cai)(cai)(cai)料(liao)(liao)、纳米材(cai)(cai)(cai)(cai)料(liao)(liao)、超(chao)导材(cai)(cai)(cai)(cai)料(liao)(liao)。可(ke)以(yi)分(fen)析的(de)材(cai)(cai)(cai)(cai)料(liao)(liao)状(zhuang)态包括(kuo):粉末样(yang)品(pin)(pin)、块状(zhuang)样(yang)品(pin)(pin)、薄膜样(yang)品(pin)(pin)、微(wei)(wei)区微(wei)(wei)量样(yang)品(pin)(pin)。广泛(fan)应用于(yu)粘(zhan)土矿物、水泥建材(cai)(cai)(cai)(cai)、环境粉尘、化工(gong)制品(pin)(pin)、药品(pin)(pin)、石棉(mian)、岩矿、聚(ju)合(he)物等研究领(ling)域采用强大(da)的(de)多毛细管平行光束系统,可(ke)对应凹(ao)凸不同的(de)样(yang)品(pin)(pin)的(de)分(fen)析,扩大(da)应用范围(wei)。技术参数1. X射线发生器(qi):铜靶或钼靶,功率50W(工(gong)作电压

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成都芯光(guang)光(guang)电科技(ji)有(you)限公司是(shi)一家专(zhuan)业(ye)技(ji)术(shu)服(fu)务公司,从事科学技(ji)术(shu)相(xiang)关领域内(nei)与科研、生产(chan)等(deng)(deng)环节(jie)密切(qie)相(xiang)关的(de)光(guang)电、材(cai)料分析、材(cai)料制备、测量仪器等(deng)(deng)设备的(de)销(xiao)售、 装(zhuang)调和(he)售后(hou)服(fu)务。业(ye)务范(fan)围涵(han)盖国(guo)内(nei)各著名(ming)高(gao)校、中国(guo)科学院所属各研究所等(deng)(deng)系统内(nei)的(de)研究机构(gou)等(deng)(deng)。

我们不(bu)仅为用(yong)(yong)户提供国(guo)外原厂生产(chan)的(de)各类标准产(chan)品,而且努力在服务过(guo)程中从领(ling)域内的(de)用(yong)(yong)户处时刻更新自己的(de)技术(shu)(shu)知识(shi),保(bao)持(chi)对领(ling)域内新技术(shu)(shu)知识(shi)的(de)了(le)解,结合仪器设备的(de)技术(shu)(shu)特(te)点,按(an)照用(yong)(yong)户的(de)不(bu)同应(ying)用(yong)(yong)要(yao)求,提供准确、先进的(de)各种仪器系统(tong)解决方案(an),包括(kuo)设计、集(ji)成等。

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